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半导体含氟废水处理案例|半导体含氟废水处理方法

内容视频背景 该半导体行业开发工厂坐落在华北国家,重点生產集成式三极管基带芯片,日尾气排放物含氟废污水约800吨。是由于偏远地区环保性条件提供,现有加工公用设施尚未能够满足氟化物尾气排放物有机废气浓度最低5mg/L的新规范,工厂的投资1八百万元在建正规含氟废污水加工系统软件。 废水处理方法的成分及源 废渣最主要是来自于存储芯片生产制造期间中的刻蚀工艺程序和拆洗工艺程序,最主要是被污染的物包涵: 氟亚铁离子氧浓度:300-800mg/L pH值:2- 含多量硅酸盐、聚磷酸盐 氢化物发生器高价属如铜、镍等 治理 工艺具体步骤具体步骤 所采用"预加工解决+化学上的积淀+深度的加工解决"組合加工: 调池:营养均衡水体供水量,布置pH在线免费监测技术 七级生理反应池:污泥脱水氢防氧化钙,操作pH至7-8,变成氟化钙沉淀自己 五级析出物池:析出物隔离氟化钙生活污水 三级反映池:加药系统氯化钙和聚合反应氯化铝,进一次清除残余物氟阳离子 一级积淀池:四次积淀溶合 砂滤设计:快速清理悬屏物 几丁质酶炭吸出:弄掉生产物和进样器血本属 淤泥整理装置:板框压滤脱水等,淤泥水分含量率低于60%有以下 终究成果 设备自动运行稳固后,溢水水质标准: 氟阴离子渗透压:2.1-3.8mg/L pH值:6.5-7. SS<5mg/L 血本属浓度均不超过检测限 基本充分考虑《电商工业企业水造成的废水直接产生》(GB39731-2020)规定要求,年均少氟化物直接产生约180吨。

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