某半导集成块制作厂厂在晶圆工作步骤中，应用硅烷对其进行硅外加成长，空气清洗塔生产高氧浓度含硅废污水。废污水有pH波动性大（2-11）、硅量高的特性，传统艺术解决技巧易导致硅垢拥堵问題。 生产废水组成及来源地 废渣最主要的组成成分为： 溶水性硅酸盐 ：SiO₂氨水浓度达1000-1500mg/L 氢防氧化钾/氢防氧化钠 ：清洗塔酸性清洗液余留 颗料硅 ：微米级SiO₂氢氧化铁 痕量砷 ：材料硫氰酸盐进入 净化处理工艺设计方案 革新采用了"二级采和+膜吸附+多效蒸发成果"鑫霖环保： 五级结合 ：用CaO调pH至4-5，生产硅酸钙沉淀自己，硅取除率60%。 特殊采和 ：加Na₂CO₃将pH优化至9，进1步沉淀自己剩下的硅，串联用镁剂除砷。 反渗透膜系统性 ：0.02μm瓷质膜滤水微米级硅小粒，通量不稳在80LMH。 MVR蒸发掉器 ：萃取高盐废水处理工艺，晶粒出Na₂SO₄副产物的，水工业废水处理率超90%。 决定性功效 总硅从1500mg/L降为5mg/L如下 砷成分从0.8mg/L降下来0.01mg/L 软件系统无积灰工作达到2年 每人每年利用硫酸钠钠晶胞约800吨