某半导体材料生产制造厂家因晶圆的清洗步骤造成含氨生活污水，需水量200吨/天。生活污水里除化学需氧量外还有氟化物和少量血本属，除理難度大。当地人直接排放细则条件化学需氧量＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 废水处理成份及原因 晶圆清洁焦化废水（具体来原）：含高锰酸盐指数200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀工作废液：含微量分析铜、镍等血本属，pH值起伏大 CMP研磨抛光废气：含硅小粒及高锰酸盐指数 治疗方法方法 选择"化学反应沉积+膜剥离 +折点氯化"搭配加工制作工艺 ： 预加工处理 ：添加CaCl2除氟，控住pH在7.5-8. 超滤膜整体 ：快速清理0.01μm这些粒子物 反融合精提 ：将氟化物浓缩液至1000mg/L上文 折点氯化 ：精确度管控氯添加量，将氧化还原电位转变为氢气 亚铁离子交換 ：有保障天价属未达标 决定性效果好 氯离子稳定性＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 高价属量压低的检测限 水回收率达75% 污泥干化引发量增多40%